광화학가공

▣ 광화학 가공(Photochemical machining)

    - 광화학 가공은 얇은 금속 시트를 빛과 다양한 화학 물질에 

       노출시키는 전산화된 공정을 말한다.

▣ 광화학 가공 단계

    1. 공작물을 세척한다.

    2. 건조 필름 감광성 레지스트를 공작물의 양면에 고온의 롤러로 코팅한다.

    3. 액체 감광성 레지스트는 담그거나 흘리거나 롤링하거나 전기이동으로 코팅한다.

    4. 액체 감광성 레지스트는 용매를 제거하기 위하여 보통 오븐에 건조시킨다.

    5. 원판을 준비한 다음 도면은 CAD로 만든다.

    6. 마스터 모형을 현상화한 다음 공작물의 사진 음화를 얻기 위하여 CAD 파일을 사용한다.

    7. CAD 도면을 레이저 이미징 시스템에 내려받고 레이저 이미징 시스템이 원하는 상을 

       사진에 노출시킨다.

    8. 감광성 레지스트를 노출시키고 잘 접촉하도록 진공틀을 사용하여 마스터 모형을 

       공작물에 붙인다.

    9. 레지스트를 강한 자외선에 노출시켜 레지스트를 화학적으로 변화시켜 어떤 용매에도

       녹지 않게 한다.

    10. 노출된 마스칸트를 적절한 용매에 놓어 노출되지 않았던 부분을 제거하고 모든 잔여물을

         헹구어 제거한다.

    11. 공작물에 반응액을 뿌린다.

    12. 남아 있는 마스칸트를 제거한다.