화학 블랭킹(Chemical blanking)의 종류

▶기계적 부하가 걸리지 않고 복잡한 형상의 마스 컨트(maskant)를 이용하여

블랭킹을 하거나 복잡한 형상을 갖는 구멍 등은 화학적 용출에 의해 블래 킹

을 할 수 있는 방법을 말한다.

▶포토에칭(Photo etching)

-기판 위에 포토레지스트를 도포한 후 포토 마스크를 씌우고 노광하여 물에

넣어 현상하면 정형 레지스트는 빛을 받은 부분이 분해되고 부형 레지스트는

빛을 받지 않은 부분이 분해되고 이것을 부식액에 침지하여 에칭을 하게 되는

방법을 말한다.

▶포토마스크(Photo mask)

-포토마스크의 감광재료로서는 사진 건판에 의한 은 염유제가 사용되고 하드

마스크로서 크롬 마스크는 평활한 유리판에 크롬 막을 형성하여 여기에 포스

레지스트를 도포하여 노광 및 현상하고 에칭에 의해 크롬 화상을 만드는

방법을 말한다.

▶포토레지스트(Photo resist)

-빛 에너지에 의해 분해가 일어나 그 용해 특성이 변화하는 물질로 이 레지스트

위에 패턴이 그려진 마스크를 놓고 노광 하면 빛을 받은 부분만 화학적으로

변화되어 이를 다시 용매에 처리하면 노광 된 부분만이 물에 녹는 네거티브 형과

노광 되지 않은 부분만 물에 녹는 포지티브형으로 마스크의 패턴이 포토레지스트에

구현되는 것을 말한다.

공학나라(기계공학)